跟着电子信息产业在国内外的飞速开展,稀土抛光材料的运用范畴也在不断变化,由传统的电视机显像管玻壳抛光,水钻抛光等向液晶显现器较精细光学仪器器材等高功能抛光范畴改变,而且与高速开展的高新科技范畴密切相关,运用远景广阔。 我国稀土抛光材料出产企业中,传统工艺出产抛光材料的企业居多,而出产高功能稀土抛光材料的企业不多。我国出产的稀土抛光材料低层次较多,在稀土抛光材料出产上与国外比较仍有很大差距,在要求较高的器材抛光上仍依靠进口稀土抛光材料,现在虽有几家出产高功能稀土抛光材料,但仍不能满意中国商场的需求。因而,加速高功能稀土抛光材料出产产业化是当时非常火急的任务。高功能稀土抛光材料具有较高的附加值、且与高速开展的精细光学和信息电子等高新技能范畴密切相关,如果能构成一定的规划,将在国际商场上具有较强的竞争力。 二.对抛光粉的基本要求:(1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;湖北稀土抛光粉包括哪些
(3)中度划痕:能看得到,手指肚感觉不出来,只能用指甲盖感觉得出来的划痕。 修复组合:可以依次使用粉红色、蓝色、橙色研磨片进行研磨,结尾用稀土抛光粉抛光。 (4)轻度划痕:能看得到,但指甲盖感觉不出来的划痕。 修复组合:可以依次使用蓝色、橙色研磨片进行研磨,结尾用稀土抛光粉抛光。 整体来说,修复原理就是先研磨、后用稀土抛光粉抛光。具体解释就是:对于比较严重的划痕,先用颗粒度比较大的(35μ)玻璃研磨片进行研磨,先将划痕研磨掉,然后再使用细的研磨片(20μ、10μ、5μ)依次进行精磨,然后再用纯羊毛抛光盘和抛光膏进行抛光,把修复区域抛亮后,玻璃划痕修复结束。局部的、小范围的修复可以节约成本和时间,但修复效果不佳;将修复区域展开,可以获得良好的修复效果,但会增加修复成本和时间。请根据实际的理想目标选择合适的修复方法。湖北稀土抛光粉包括哪些应该指出的是,很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。
(3)稀土轻氯化物、氟硅酸、碳酸氢铵为沉淀剂,经稀土氟碳酸盐沉淀、水洗、过滤、锻烧、筛球磨等工序。所得产品颗粒细、均匀、化学活性强、抛光效率高、用途广。 (4)采用氯化稀土或分离的铈富集物作原料,得到了质量高的稀土抛光粉,但其生产工艺多,成本高。通常采用硫酸铵、草酸、碳酸钠或碳酸氢铵及氨水作为沉淀剂,经锻烧、分级、过滤、干燥等工序制成的抛光粉,CeO2含量在45%一55%左右,更佳锻烧温度为850—950℃,锻烧时间为2.5—3h。而由不同沉淀剂配制的抛光粉具有不同的性质,其中以硫酸铵为沉淀剂,经碱化、氟硅酸氟化后得到的抛光粉的抛蚀量更大,而以碳酸氢铵及氨水为沉淀剂,加水煮沸、氟硅酸氟化后得到的稀土抛光粉的抛蚀效果更差。
抛光粉的使用: 抛光粉具有较优的化学与物理性能,所以在工业制品抛光中获得了很广的使用,如已在各种光学玻璃器材、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。 抛光粉作用:抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的长处,与传统抛光粉—铁红粉相比,不污染环境,易于从沾着物上除去等长处。用氧化铈抛光粉抛光透镜,一分钟完结的工作量,如用氧化铁抛光粉则需要30~60分钟。所以,稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光效率高的长处。而且能改动抛光质量和操作环境。一般稀土玻璃抛光粉主要用富铈氧化物。氧化铈之所以是极有效的抛光用化合物,是因为它能用化学分解和机械二种形式一起抛光玻璃。稀土铈抛光粉很多用于照相机、开麦拉镜头、电视显像管、眼镜片等的抛光。粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响。
抛光粉的根本成分是一些金属氧化物,如铁、铈、锆、铝、钛、铬和其他金属氧化物。宝石抛光粉和大理石抛光粉等。作为玻璃工业中常用的抛光粉,有三品种型:氧化铁(也称为红色粉末)、铈基稀土抛光粉、氧化锆,其中铈基稀土抛光粉被以为是好的抛光材料;宝石抛光粉包含氧化铬、氧化铈和铝硅尖晶石以及由高岭土制成的莫来石抛光粉;大理石抛光粉是灰白色超细粉末的混合物,主要由-al2o 3、二氧化锡和铅组成。抛光粉是作为玻璃运用的,但是随着高科技的展开,为了满足高精度功用材料的请求,抛光粉产品所需的物理性能也不同,其制备工艺也随之改动。因此,寻求其性能、之间的联络、佳匹配联络、以及佳工艺条件成为研讨的重点。不同的质料对应不同的制备工艺。湖北稀土抛光粉包括哪些
一次粒径一般要求在20-30nm,二次粒径一般要求0.2um。湖北稀土抛光粉包括哪些
1、高铈系稀土抛光粉 首要以 稀土混合物别离后的氧化铈(如以“氯化稀土”别离)或以“氟碳铈矿”的中间产品,富铈富集物为初始质料,以物理化学办法加工成硬度大,粒度均匀、细小,呈面心立方晶体的粉末产品。 其首要工艺进程为 : 质料 → 高温 → 煅烧 → 水淬 → 水力分级 → 过滤 → 烘干 → 高级铈系稀土抛光粉产品。 首要设备有 : 煅烧炉,水淬槽,分级器,过滤机,烘干箱。 2、中铈系稀土抛光粉 用混合稀土氢氧化物 (w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%) 为质料,以化学办法预处理得稀土盐溶液,参加中间体 ( 沉积剂 ) 使转化成w(CeO2)=80% ~ 85% 的中级铈系稀土抛光粉产品。 其首要工艺进程为 : 质料 → 氧化 → 优溶 → 过滤 → 酸溶 → 沉积 → 洗涤过滤 → 高温煅烧 →细磨筛分 → 中级铈系稀土抛光粉产品。 首要设备有 : 氧化槽,优溶槽,酸溶槽,沉积槽,过滤机,煅烧炉,细磨筛分机及包装机。湖北稀土抛光粉包括哪些